世界光刻机巨头ASML出现在第三届CIIE上。在此CIIE上，ASML在其展位上展示了其DUV光刻机。据报道，ASML之所以没有展示新的EUV光刻机，主要是因为它们仍然无法向中国出口EUV光刻机，而这次展示的DUV光刻机可以生产7纳米及以上的工艺芯片。 ASML这次还带来了其整体光刻解决方案，包括光刻机的先进控制功能，可通过建模，仿真，分析和其他技术来计算光刻和测量，从而不断提高边缘定位的准确性。在此之前，ASMLCFORoger Dassen在财务报告会议上的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务状况。他说，在某些情况下，出口光刻机不需要许可证。罗杰·戴森（Roger Dassen）指出，ASML了解美国当局当前的规章制度及其解释。当然，他们也知道这些与特定的中国客户密切相关。但是，如果您大致了解ASML规则和法规对ASML（针对特定的中国客户）的总体含义，那么这意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统，而无需出口许可证。美国仅限制美国向中国出口芯片，光刻机等，但不限制其他国家向中国进口。荷兰不在美国禁令范围之内。目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。 DUV光刻机分为两种：干馏和液浸。其中，液浸型诞生于ASML手中。尽管其波长为193nm，但等效于134nm。经过多次曝光后，液浸光刻机也可以达到7nm工艺。但是，每增加一次曝光都会大大增加制造成本，并且良率也难以控制。 EUV光刻机使用波长为13.5nm的光源，这是突破10nm芯片工艺节点必不可少的工具。换句话说，即使DUV（深紫外线）光刻机可以在没有ASML的EUV光刻机的情况下找到尼康和佳能的替代品，芯片巨头台积电，三星和英特尔的5nm生产线也无法实现。投产。